第七届国际商标标志双年奖（LOGO2010）春节期间截稿通告
http://www.socang.com 2011-01-28 11:17 来源：浙江艺术网
秉着发掘更多设计青年才俊的初衷，为了能够更好地、更大范围地发掘、扶植青年设计师，CCII国际设计中心连续举办了七届国际商标标志双年奖，用奖项的形式进行选拔、褒奖、展示。
两年一度的国际商标标志双年奖是ICOGRADA认可的国际性设计奖项，也是商标节的重要活动之一。历届评审团均由国际著名设计大师组成，其中有ICOGRADA前主席海尔穆特•朗格、AGI前主席石汉瑞、美国分会主席斯蒂夫•盖斯布勒、瑞士分会主席尼古拉斯•特罗斯勒、法国AGI成员吕迪•鲍尔、中国AGI会员余秉楠、靳埭强、阿根廷平面协会主席巴布罗•康斯特、香港设计师协会前任主席刘小康、纽约艺术指导协会（ADC）中国主席任宝华等。他们的评选结果代表了当今世界视觉识别设计领域的极高水准，使一批优秀的设计师脱颖而出，并将他们的视觉能量传播给世界。评选将严格遵循双年奖的评选的三大原则进行：作品的原创性、艺术上的完美性、准确传达内容。
获奖作品将入选《LOGO2010国际商标标志双年奖年鉴》，并将在国际设计网及相关的宣传资料中刊登。评选结束后，作品将随ADC获奖作品在全国20多个城市巡回展出，更将通过ICOGRADA在各国的设计组织与其他国家进行设计交流展览。
如今，第七届国际商标标志双年将（LOGO2010）已经到了最后的征稿阶段，将于春节期间正式截稿，特此通知。
望各界人士相互转告，希望更多的有志青年参与到这个创意平台来，释放能量。参赛详情请登陆CCII国际设计网查看。
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